今日,光刻膠板塊領漲A股市場,截至發(fā)稿,容大感光20CM漲停,格林達、晶方科技漲停,康鵬科技漲超13%,波長光電漲超12%,安集科技漲超9%,盛劍環(huán)境、藍英裝備、蘇大維格、南大光電、同益股份等跟漲。
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消息面上,光刻機概念股廣信材料昨日發(fā)布2023年半年度報告,上半年公司實現(xiàn)營業(yè)收入2.43億元,歸母凈利潤1,989.05萬元,同比實現(xiàn)扭虧并大幅增長227.57%。
另外,電子材料咨詢公司TECHCET報告指出,預計全球光刻膠市場將在2024年實現(xiàn)反彈,增長7%,總額達到25.7億美元。
光刻膠需求持續(xù)增長
在5G、物聯(lián)網、智能汽車、云服務等下游旺盛需求的驅動下,全球半導體需求逐漸提升。而光刻膠為集成電路中極為重要的材料,作為圖形媒介物質,用于芯片制造的光刻環(huán)節(jié),是必不可缺的關鍵材料。
在傳統(tǒng)的光刻機的研發(fā)層面,目前難題在于制造的精度上,對于芯片制造工藝來說,通過多重曝光技術可以實現(xiàn)更高的精度,但隨著曝光次數的增加,光刻次數在增加,光刻膠需求也將隨之大幅提升。
光刻膠作為光刻過程的關鍵耗材,也因其高壁壘、高價值量的特點,被荷蘭 ASML、日本佳能、尼康三大巨頭壟斷。
據芯思想Chipinsights數據顯示,在2022出貨的551臺光刻機中,ASML累計出貨345臺,佳能176臺,尼康30臺。銷售額方面,ASML為絕對龍頭,占據82%的市場份額。
然而,值得注意是,荷蘭此前發(fā)布的光刻機出口管制細則將于明日(9月1日)生效。伴隨荷蘭、日本、美國加大半導體設備出口限制風險升級,將進一步推動中國半導體國產化率提升。
與此同時,隨著全球晶圓制造的重心和產能分布逐漸移向東亞地區(qū)轉移,我國光刻膠市場規(guī)模有望顯著增長。
根據Techcet數據,預計2021年全球光刻膠市場規(guī)模達19.88億美元,2025年有望達24.66億美元,5年CAGR達6.11%。2021年中國大陸地區(qū)的光刻膠市場規(guī)模達到13.39億美元,CAGR11%,增長速度為國際光刻膠市場的兩倍。
我國有望承接半導體光刻膠產業(yè)鏈轉移
值得關注的是,電子材料咨詢公司TECHCET首席策略師Karey Holland博士指出:“增長最快的光刻膠產品是EUV和KrF,因為這兩種產品都用于引入先進邏輯和存儲器等新技術?!?/p>
隨著高端光刻膠需求增加,國內外廠商將逐鹿KrF、ArF(可用于EUV工藝)光刻膠。而制造8寸、12寸晶圓需使用KrF、ArF光刻膠,全球8寸/12寸晶圓廠擴產將帶動KrF、ArF光刻膠需求。
根據SEMI數據,2026年全球300mm(12寸)晶圓廠產能有望提高至960萬片/月;全球半導體制造商預計將從2021年到2025年將200mm晶圓廠產能提高20%,新增13條200mm生產線,產能有望超700萬片/月。
需求端方面,據TECHCET數據,2025年,KrF/ArF光刻膠市場規(guī)模分別為9.07/10.72億美元,故未來KrF、ArF光刻膠將成為國內外廠商主要競爭市場。
據IDC及芯思想研究院統(tǒng)計,截至2021年,我國6英寸及以下晶圓制造線裝機產能約420萬片等效6英寸晶圓產能,8英寸、12英寸 晶圓制造廠裝機產能分別為125萬片/月、131萬片/月,預計到2024年8英寸、12英寸將達到187與273萬片/月,年均復合增速分別 為14.37%、27.73%。
因此我國大陸晶圓廠新產能建設在本輪擴產中處于全球領先地位,光刻膠需求增長更快。
對此,太平洋證券認為,伴隨晶圓制造規(guī)模持續(xù)提升,中國有望承接半導體光刻膠產業(yè)鏈轉移。
相關概念股一覽:
彤程新材:目前生產半導體光刻膠、顯示面板光刻膠等,半導體光刻膠還包括G線、I線、KrF光刻膠。主要國內客戶包括中芯國際、華虹集團、長江存儲、長鑫存儲等幾十家客戶。
瑞聯(lián)新材:光刻膠材料產品以半導體光刻膠單體和顯示用高端光刻膠為主,其中半導體光刻膠單體主要面向國外光刻膠領域的知名企業(yè),顯示用高端光刻膠主要面向國內客戶。
福晶科技:晶體龍頭,曾為ASML的供應商。光刻機光學方面,公司前期曾通過歐洲代理向ASML供應少量光學元件,公司晶體核心產品LBO、BBO市占率達80%。
茂萊光學:工業(yè)精密光學龍頭,為上海微批量供應光刻機透鏡。光刻機光學領域,公司主要供應光刻機光學系統(tǒng)照明、曝光模塊使用的透鏡,主要客戶為上海微電子。半導檢測設備測光學領域,公司主要供應物鏡、透鏡,主要客戶為康寧、Camtek、KLA等。
騰景科技:多波段合分束器已進入樣品驗證階段。1)騰景科技主營產品為精密光學元組件、光纖器件。光學元組件產品主要包括平面光學元件、球面光學元件、模壓玻璃非球面透鏡、光學組件等;光纖器件產品主要包括鍍膜光纖器件、準直器、聲光器件等。2)光刻機光學領域,多波段合分束器已完成產品開發(fā),成功進入半導體微電子設備廠供應鏈。
炬光科技:光場勻化器成功進入ASML供應鏈。公司多年來一直為半導體光刻應用領域提供光刻機曝光系統(tǒng)中的核心激光光學元器件光場勻化器,最終應用于全球高端光刻機生產商ASML的核心設備。
奧普光電:蔡司的間接供應商,主要供應K9光學玻璃、人造螢石(CaF2)等高端光學材料,系長春光機所控股公司。公司大股東為長春光機所(中國科學院長春光學精密機械與物理研究所),持有42.4%股權,長春光機所于2002年研制國內第一套EUV光刻原理裝置,2016年成功研制波像差優(yōu)于0.75nm RMS的兩鏡EUV光刻物鏡系統(tǒng),2017年32nm線寬的13.5nmEUV 光刻曝光系統(tǒng)通過驗收。
蘇大維格:研發(fā)生產投影式光刻機用定位光柵部件,主要客戶為上海微電子。
晶方科技:通過收購荷蘭子公司打入ASML供應鏈,擁有混合鏡頭、晶圓級微型光學器件工藝技術設計、特性材料及量產能力,其產品可廣泛應用于半導體精密設備、工業(yè)自動化、汽車、安防、3D 傳感器等應用領域。
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